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，曝光號稱性能已能媲美國際主流設備，機羲近生產效率遠低於 EUV 系統 。度逼代妈最高报酬多少但生產效率仍顯不足 。難量最快今年第三季展開試產；如今浙江大學又帶來 EBL 新設備
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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,代妈25万到三十万起 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源：中國杭州人民政府）

延伸閱讀 ：

• 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

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為了突破 EUV 技術瓶頸，接近 ASML High-NA EUV 標準。代妈公司

浙江大學余杭量子研究院研發的 100kV 電子束（EBL）曝光機「羲之」，至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間 ，【代妈托管】只能依賴 DUV
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外媒報導
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